1)Ar：物理轰击是Ar清气洁净的机制。氩是常见的有效的物理等离子洁净气体，反应等离子体刻蚀的反应室工作压强是多少因为它的原子大小。可对样品表面施加很大的力量。正氩离子会吸引负极板。冲击足以去除表面的污垢。然后此类气体污垢能够 真空泵排出。2)O2:化学工艺中等离子与样品表面的化合物产生反应。举例，
